Methods and apparatus for calculating electromagnetic scattering properties of a structure and for estimation of geometrical and material parameters thereof
WO2015078670
Art A1
4. Juni 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015078670
- Aktenzeichen
- EP14796026
- Anmeldetag
- 4. November 2014
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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