Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern formation method in which same is used, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2015079814 Art A1 4. Juni 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015079814
Aktenzeichen: EP14866193
Anmeldetag: 10. Oktober 2014
Veröffentlichung: 4. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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