Plasma processing device capable of plasma shaping through magnetic field control

WO2015080516 Art A1 4. Juni 2015

Anmelder: Seoul National University R&DB Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015080516
Aktenzeichen: EP14865610
Anmeldetag: 28. November 2014
Veröffentlichung: 4. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Seoul National University R&DB Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University R&DB Foundation

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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