Method and apparatus for measuring a structure on a substrate, models for error correction, computer program products for implementing such methods&apparatus

WO2015082158 Art A1 11. Juni 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015082158
Aktenzeichen: EP14793192
Anmeldetag: 5. November 2014
Veröffentlichung: 11. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01B11/24G01N21/47G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von