Cleaning liquid, semiconductor substrate cleaning method, and metal pattern formation method

WO2015083636 Art A1 11. Juni 2015

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015083636
Aktenzeichen: EP14867533
Anmeldetag: 28. November 2014
Veröffentlichung: 11. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C11D7/32C11D7/26C11D17/08G03F7/42H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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