Radiation source, metrology apparatus, lithographic system and device manufacturing method

WO2015086259 Art A1 18. Juni 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015086259
Aktenzeichen: EP14802373
Anmeldetag: 14. November 2014
Veröffentlichung: 18. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01J61/04G03F7/20H01J61/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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