Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2015087676 Art A1 18. Juni 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015087676
Aktenzeichen: EP14869631
Anmeldetag: 19. November 2014
Veröffentlichung: 18. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F20/18G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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