Substrate treatment device and method

WO2015087897 Art A1 18. Juni 2015

Anmelder: NTN Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015087897
Aktenzeichen: EP14869399
Anmeldetag: 10. Dezember 2014
Veröffentlichung: 18. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/68G02F1/13H01L51/50H05B33/02H05B33/10H05B33/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NTN Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NTN

Japanischer Hersteller von Wälzlagern mit Sitz in Osaka. NTN entwickelt Kugellager, Rollenlager und Antriebswellen für Automobil-, Maschinenbau- und Industrieanwendungen.

3.646 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von