Photosensitive transfer material, pattern formation method, and etching method

WO2015093271 Art A1 25. Juni 2015

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015093271
Aktenzeichen: EP14871198
Anmeldetag: 1. Dezember 2014
Veröffentlichung: 25. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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