Method for manufacturing sic wafer, method for manufacturing sic semiconductor, and graphite silicon carbide composite substrate
WO2015093550
Art A1
25. Juni 2015
Anmelder: Ibiden Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015093550
- Aktenzeichen
- EP14870750
- Anmeldetag
- 17. Dezember 2014
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02B23K20/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Ibiden Co., Ltd
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ibiden
Ibiden ist ein japanischer Hersteller elektronischer Materialien mit Sitz in Ogaki, spezialisiert auf IC-Substrate für Halbleiter sowie Keramikprodukte für die Automobil- und Elektronikindustrie.
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