Method for manufacturing semiconductor substrate, semiconductor substrate, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element
WO2015093608
Art A1
25. Juni 2015
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015093608
- Aktenzeichen
- EP14871687
- Anmeldetag
- 19. Dezember 2014
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/22H01L21/225H01L31/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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