Method for manufacturing semiconductor substrate, semiconductor substrate, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element

WO2015093608 Art A1 25. Juni 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015093608
Aktenzeichen
EP14871687
Anmeldetag
19. Dezember 2014
Veröffentlichung
25. Juni 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/22H01L21/225H01L31/18
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen