Reduced trace metals contamination ion source for an ion implantation system

WO2015095692 Art A1 25. Juni 2015

Anmelder: Axcelis Technologies Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015095692
Aktenzeichen: EP14827663
Anmeldetag: 19. Dezember 2014
Veröffentlichung: 25. Juni 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Axcelis Technologies Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

377 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von