Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2015098400 Art A1 2. Juli 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015098400
Aktenzeichen: EP14875299
Anmeldetag: 26. November 2014
Veröffentlichung: 2. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C23C14/06G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von