Substrate processing system
WO2015098596
Art A1
2. Juli 2015
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Osaka University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015098596
- Aktenzeichen
- EP14875851
- Anmeldetag
- 15. Dezember 2014
- Veröffentlichung
- 2. Juli 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G03F7/20H01L21/677
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Osaka University - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Osaka University
Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.
1.047 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
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