Resin composition, resist mask for dry etching, and pattern formation method

WO2015098662 Art A1 2. Juli 2015

Anmelder: DIC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015098662
Aktenzeichen: EP14875575
Anmeldetag: 17. Dezember 2014
Veröffentlichung: 2. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C08F12/34C08F257/00C08K5/00C08L25/02C08L101/02H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DIC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 DIC Corporation

DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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