Photosensitive resin composition for dry film photoresist

WO2015099371 Art A1 2. Juli 2015

Anmelder: Kolon Industries, Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015099371
Aktenzeichen: EP14875549
Anmeldetag: 22. Dezember 2014
Veröffentlichung: 2. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/032G03F7/027G03F7/028G03F7/11G06F3/041

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Kolon Industries, Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Kolon Industries

Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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