Silsesquioxane having hot melt extrusion forming capability, highly transparent and highly heat-resistant plastic transparent substrate using same, and method of manufacturing same

WO2015099443 Art A1 2. Juli 2015

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015099443
Aktenzeichen: EP14874197
Anmeldetag: 24. Dezember 2014
Veröffentlichung: 2. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/04C08G77/06C08J5/18C08J7/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Dongjin Semichem Co., Ltd
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von