Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product

WO2015104074 Art A1 16. Juli 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015104074
Aktenzeichen: EP14796441
Anmeldetag: 23. Oktober 2014
Veröffentlichung: 16. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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