Film forming method and heat treatment apparatus

WO2015108065 Art A1 23. Juli 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tohoku Techno Arch Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015108065
Aktenzeichen: EP15737578
Anmeldetag: 14. Januar 2015
Veröffentlichung: 23. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31H01L21/314H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Tohoku Techno Arch Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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