Radiation Source

WO2015110238 Art A1 30. Juli 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015110238
Aktenzeichen: EP14815729
Anmeldetag: 19. Dezember 2014
Veröffentlichung: 30. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20F21V7/09G02B27/09H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von