Fabrication of igzo oxide tft on a low cte, low retardation composite film

WO2015110355 Art A1 30. Juli 2015

Anmelder: Covestro Deutschland AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015110355
Aktenzeichen: EP15701130
Anmeldetag: 16. Januar 2015
Veröffentlichung: 30. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/49H01L29/66H01L29/786

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Abstract

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Anmelder

Firma: Covestro Deutschland AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Covestro Deutschland

Deutsches Chemieunternehmen mit Sitz in Leverkusen. Covestro entwickelt und produziert Hochleistungskunststoffe wie Polyurethane und Polycarbonate für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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