Liquid composition for removing titanium nitride, semiconductor-element cleaning method using same, and semiconductor-element manufacturing method

WO2015111684 Art A1 30. Juli 2015

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015111684
Aktenzeichen: EP15741043
Anmeldetag: 23. Januar 2015
Veröffentlichung: 30. Juli 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C09K13/08C11D1/22C11D1/29C11D1/34C11D1/40C11D1/62C11D1/75C11D1/90C11D1/92C11D3/04C11D3/24C11D3/39C23F11/04H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von