Silicon carbide epitaxial substrate, and method for producing silicon carbide epitaxial substrate

WO2015114961 Art A1 6. August 2015

Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015114961
Aktenzeichen: EP14880723
Anmeldetag: 11. Dezember 2014
Veröffentlichung: 6. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/36C23C16/42C23C16/455C30B25/16H01L21/20H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

11.193 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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