Substrate processing device

WO2015114977 Art A1 6. August 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015114977
Aktenzeichen
EP14881169
Anmeldetag
17. Dezember 2014
Veröffentlichung
6. August 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/302H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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