Substrate processing device
WO2015114977
Art A1
6. August 2015
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015114977
- Aktenzeichen
- EP14881169
- Anmeldetag
- 17. Dezember 2014
- Veröffentlichung
- 6. August 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/302H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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