Pattern forming method, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2015115016 Art A1 6. August 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015115016
Aktenzeichen: EP14880632
Anmeldetag: 26. Dezember 2014
Veröffentlichung: 6. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004G03F7/038G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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