Method for recovering and purifying argon gas from single-crystal-silicon production device, and device for recovering and purifying argon gas

WO2015115031 Art A1 6. August 2015

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015115031
Aktenzeichen: EP15743155
Anmeldetag: 14. Januar 2015
Veröffentlichung: 6. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C01B23/00B01D53/04B01D53/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

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