Method for enhancing beam utilization in a scanned beam ion implanter

WO2015116784 Art A1 6. August 2015

Anmelder: Axcelis Technologies Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015116784
Aktenzeichen: EP15743163
Anmeldetag: 29. Januar 2015
Veröffentlichung: 6. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Axcelis Technologies Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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