Euv Optical Element Having Blister-Resistant Multilayer Cap

WO2015117887 Art A1 13. August 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015117887
Aktenzeichen: EP15702222
Anmeldetag: 29. Januar 2015
Veröffentlichung: 13. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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