Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, mask blank provided with active light sensitive or radiation sensitive film, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device, compound and method for producing compound
WO2015118769
Art A1
13. August 2015
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015118769
- Aktenzeichen
- EP14881407
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2014
- Veröffentlichung
- 13. August 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C07C41/01C07C43/178G03F7/038
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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