Thin film production device, mask set, and thin film production method
WO2015119101
Art A1
13. August 2015
Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015119101
- Aktenzeichen
- EP15746293
- Anmeldetag
- 3. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 13. August 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/54C23C14/04C23C14/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ULVAC, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
ULVAC
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.
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