Liquid composition for etching oxides comprising indium, zinc, tin, and oxygen and etching method

WO2015122250 Art A1 20. August 2015

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015122250
Aktenzeichen
EP15749342
Anmeldetag
21. Januar 2015
Veröffentlichung
20. August 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/308C09K13/04C09K13/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

2.580 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen