Pattern forming method, etching method, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2015122326 Art A1 20. August 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015122326
Aktenzeichen: EP15749510
Anmeldetag: 4. Februar 2015
Veröffentlichung: 20. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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