Lithographic apparatus and method

WO2015124457 Art A1 27. August 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT GmbH 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015124457
Aktenzeichen: EP15703969
Anmeldetag: 10. Februar 2015
Veröffentlichung: 27. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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