Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, resist-coated mask blank, resist pattern forming method and photomask

WO2015125530 Art A1 27. August 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015125530
Aktenzeichen: EP15752816
Anmeldetag: 20. Januar 2015
Veröffentlichung: 27. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/14C08F220/30C08L101/06H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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