Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device using pattern forming method, and electronic device

WO2015125554 Art A1 27. August 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015125554
Aktenzeichen: EP15752630
Anmeldetag: 23. Januar 2015
Veröffentlichung: 27. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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