Pulsed light generation method, pulsed laser device, and exposure device and inspection device provided with pulsed laser device

WO2015125827 Art A1 27. August 2015

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015125827
Aktenzeichen: EP15751705
Anmeldetag: 18. Februar 2015
Veröffentlichung: 27. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/03G02F1/37G03F7/20H01L21/027H01S3/00H01S3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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