Photosensitive resin composition, cured object and production method therefor, resin pattern production method, cured film, liquid crystal display device, organic el display device, infrared cutoff filter, and solid imaging device

WO2015125870 Art A1 27. August 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015125870
Aktenzeichen: EP15751767
Anmeldetag: 19. Februar 2015
Veröffentlichung: 27. August 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F212/14C08F220/10G02B5/20G03F7/039G03F7/40H01L21/027H01L51/50H05B33/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.772 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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