Cover Plate For Defect Control in Spin Coating
WO2015126425
Art A1
27. August 2015
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015126425
- Aktenzeichen
- EP14882850
- Anmeldetag
- 24. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 27. August 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B05C5/02B05D3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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