Methods and techniques to use with photosensitized chemically amplified resist chemicals and processes

WO2015127459 Art A1 27. August 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015127459
Aktenzeichen
EP15751688
Anmeldetag
24. Februar 2015
Veröffentlichung
27. August 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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