Resin composition, resist film using same, resist-application mask blanks, resist-patterning method, and photomask

WO2015129307 Art A1 3. September 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015129307
Aktenzeichen: EP15755186
Anmeldetag: 13. Januar 2015
Veröffentlichung: 3. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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