Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

WO2015129468 Art A1 3. September 2015

Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015129468
Aktenzeichen: EP15754620
Anmeldetag: 12. Februar 2015
Veröffentlichung: 3. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/00C23C14/34C23C14/58H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von