Substrate treatment device and substrate treatment method

WO2015129623 Art A1 3. September 2015

Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015129623
Aktenzeichen: EP15754996
Anmeldetag: 23. Februar 2015
Veröffentlichung: 3. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306H01L21/02H01L21/027H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SCREEN Holdings Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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