Compound, and photoresist composition containing same
WO2015129700
Art A1
3. September 2015
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015129700
- Aktenzeichen
- EP15756029
- Anmeldetag
- 24. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 3. September 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C43/23C07C69/017C07C69/24G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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