Wiring pattern production method and transistor production method

WO2015129799 Art A1 3. September 2015

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015129799
Aktenzeichen: EP15755264
Anmeldetag: 26. Februar 2015
Veröffentlichung: 3. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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