Radiosensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer, and compound

WO2015129832 Art A1 3. September 2015

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015129832
Aktenzeichen: EP15755802
Anmeldetag: 26. Februar 2015
Veröffentlichung: 3. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C233/91C07C311/46C07C311/48C07D211/32C07D211/96C07D307/20C07D309/10C07D333/78C07D335/02C08F220/28C08F220/34C08F220/38G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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