Hybrid wafer dicing approach using temporally-controlled laser scribing process and plasma etch

WO2015130575 Art A1 3. September 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015130575
Aktenzeichen: EP15755138
Anmeldetag: 20. Februar 2015
Veröffentlichung: 3. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/301H01L21/78H01L21/76H01L21/268

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von