Hall effect enhanced capacitively coupled plasma source, an abatement system, and vacuum processing system

WO2015134157 Art A1 11. September 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015134157
Aktenzeichen: EP15758586
Anmeldetag: 9. Februar 2015
Veröffentlichung: 11. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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