Photosensitive polymer resin, photosensitive resin composition comprising the same, and layer made therefrom
WO2015135864
Art A1
17. September 2015
Anmelder: Solvay SA 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015135864
- Aktenzeichen
- EP15710462
- Anmeldetag
- 6. März 2015
- Veröffentlichung
- 17. September 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F220/18C08F220/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Solvay SA
- Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
Solvay
Belgischer Chemiekonzern mit Sitz in Brüssel, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Materialien und Kunststoffe für Industrie und Konsumgüter. Das Unternehmen wurde 1863 gegründet.
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