Low-Dielectric-Constant Film

WO2015136743 Art A1 17. September 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tohoku Techno Arch Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015136743
Aktenzeichen: EP14885530
Anmeldetag: 8. September 2014
Veröffentlichung: 17. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316C23C16/42C23C16/511

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Tohoku Techno Arch Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von