Plasma processing device and film formation method

WO2015136852 Art A1 17. September 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015136852
Aktenzeichen: EP15762132
Anmeldetag: 23. Februar 2015
Veröffentlichung: 17. September 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/455C23C16/511H01L21/318H01L21/8246H01L27/105H01L43/12H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von